ICP 刻蚀机  ： 高密度等离子蚀刻装置NE-550

特点：

等离子密度与向基板入射的能量能够单独控制，因此 Process window 宽。

均一性好。

离子性蚀刻到 radical 性蚀刻都能都大幅度控制。

构造简单，维护性能*。

来自半导体技术研究所的工艺支持体制。

CS （ Customer’s Support ）解决方案的综合服务体制。

可选 Cassette 室，提高生产量。

丰富的 Process Application ：

1. ISM: Inductively Super Magnetron 有磁场 ICP 型

2. ISM 是可以由低电源得到稳定均一的放电，达到 Damage 少的蚀刻。

3. 使用不挥发性材料的次时代 memory‐Al2O3, 磁性体， Pt, Ir, PZT, SBTO 等

4. 超高频率器件，光器件。

‐ 绝缘膜， GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, Sapphire ， GaN ， STO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, Polyimide ， BST, STO

5. 各种传感器器件等 Photo Nic 结晶。

6. MEMS(micromachine ）