| 产地类别 | 进口 | 价格区间 | 150万-200万 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 电子/电池 |
超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)
纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本
CRESTEC
公司为
21
世纪先进纳米科技提供
的电子束纳米光刻（
EBL
）系统，或称电子束直写（
EBD
）、电子束爆光系统。
超高分辨率的电子束光刻CABL-UH系列的型号包括：
CABL-UH90 (90keV)
、
CABL-UH110 (110keV)
、
CABL-UH130 (130keV)
技术参数：
加速电压：高
130keV
单段加速能力达到130keV，尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm
小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力
采购中心
化工仪器网