PLD脉冲激光沉积系统(美国NBM)

脉冲激光沉积系统 -PLD

型号： AP-PLD230

脉冲激光沉积系统 ( PLD ) 是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。 PLD 方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成 薄膜材料 。

我们PLD系统拥有性能价比 , 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口 PLD 系统。

技术参数配置:

1.靶 : 数量 6 个，大小 1-2 英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制 ;

2.基板 : 采用适合于氧气环境铂金加热片，大小 2 英寸，加热温度可达 1200 摄氏度，温度差 <3% ，加热时基板可旋转，工作环境压力是 300mtorr;

3.基板加热电源， 到 1200 度 ;

4.超高真空成膜室腔体 : 不锈钢 sus304 材质，内表面电解抛光，本底真空度 <5e- 7 Torr ;

5.样品 传输 室:不锈钢 sus304 材质，内表面电解抛光，本底真空度 <5e-5 pa;

6.排气系统 : 分子泵和干式机械泵 ;

7.阀门 : 采用超高真空挡板阀 ;

8.真空检测 : 真空计 ;

9.气路两套 : 采用气体流量计控制 ;

10.薄膜生长监控系统 : 采用扫描型差分 RHEED;

11.监控软件系统 : 基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等 ;

12.各种电流导入及测温端子 ;

13.其它各种构造 : 各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等 ;