ELEDE® 380系列 芯片刻蚀机

1. 产品概述

ELEDE® 380系列 芯片刻蚀机，优良的等离子体发生装置，适用多种材料刻蚀，工艺窗口宽。

2. 设备用途 /原理

优良的等离子体发生装置，适用多种材料刻蚀，工艺窗口宽 。 多片式托盘，实现高产能，同时确保优异的刻蚀均匀性 。 全路径全真空，全自动晶圆传输，颗粒控制优 。 工艺套件设计，更长的耗材寿命 。

3. 设备特点

晶圆尺寸 4、6 英寸及特殊尺寸 。 适用材料蓝宝石、氮化镓、氧化硅 / 氧化钛、砷化镓、磷化镓、铝镓铟磷、氧化硅、氮化硅、钛钨、有机物 。 适用工艺 PSS 刻蚀、电刻蚀、深槽隔离刻蚀、介质反射层（DBR）刻蚀、红黄光刻蚀、钝化层刻蚀、金属阻挡层刻蚀 。 适用域化合物半导体 。