Epiluvac ER3-C1 SiC分子外延系统
- 公司名称 深圳市矢量科学仪器有限公司
- 品牌 Veeco
- 型号 Epiluvac ER3-C1
- 产地 美国
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2025/6/6 11:29:12
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Epiluvac ER3-C1
晶圆直径可达 200 mm （8“）
通过热壁拓扑结构实现出色的均匀性
优良的动态气体流量控制，可实现佳生长速率和掺杂均匀性。
具有多个加热区的出色温度曲线
不含石英，适用于氯化工艺
在清洁的惰性气氛中进行热晶圆装载 /卸载可大限度地减少颗粒污染并延长石墨部件的使用寿命
模块化设计，两个、三个或四个反应器组成集群配置。每个反应器都针对特定的生长步骤进行了优化
在受控环境中在反应器之间进行晶圆运输
高达 1800 °C
适用于中小批量生产和研发
Epiluvac EPI 1000-C ：
热壁 CVD 具有出色的均匀性
大 150 mm 基板直径
单晶圆和手动装载
非常适合研发
Epiluvac ER3-N1 ：
上述 ER3-C1系统的GaN版本
可选的原位监测
获得利的温度控制，可大限度地减少晶圆弯曲
Epiluvac ER3-C1 ：
晶圆直径可达 200 mm （8“）
通过热壁拓扑结构实现出色的均匀性
优良的动态气体流量控制，可实现佳生长速率和掺杂均匀性。
具有多个加热区的出色温度曲线
不含石英，适用于氯化工艺
在清洁的惰性气氛中进行热晶圆装载 /卸载可大限度地减少颗粒污染并延长石墨部件的使用寿命
模块化设计，两个、三个或四个反应器组成集群配置。每个反应器都针对特定的生长步骤进行了优化
在受控环境中在反应器之间进行晶圆运输
高达 1800 °C
适用于中小批量生产和研发
Epiluvac EPI 1000-C ：
热壁 CVD 具有出色的均匀性
大 150 mm 基板直径
单晶圆和手动装载
非常适合研发
Epiluvac ER3-N1 ：
上述 ER3-C1系统的GaN版本
可选的原位监测
获得利的温度控制，可大限度地减少晶圆弯曲
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