GNP GPC-300A 全自动CMP晶圆清洗一体机
- 公司名称 深圳市矢量科学仪器有限公司
- 品牌 G&P
- 型号 GNP GPC-300A
- 产地 韩国
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2025/6/6 11:50:12
- 访问次数 371
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规格：
抛光机部分机头，工作台 :30- 200rpm ，旋转运动，机头振荡 ( ± 15mm)
抛光机尺寸 : 宽 1626 * 宽 1500 * 高 1950 毫米
重量 : 约 2500 公斤压板尺寸 : Φ 762 毫米 (30 英寸 ) ，特氟龙涂层铝
压制方式 : 可变空气
压力电子控制器膜类型 :70-350 克 / 平方厘米 (1 psi~5 psi) 的 12" 晶圆片
CMP 制程 :Si CMP 、氧化物 CMP(BPSG 、 TEOS 、 SC) 、金属 CMP(W 、 Cu) 、 STI 、 PGI 等
可添加选项
垫式调理方法 : 摆头式或摆臂式
单头或双头系统
摩擦力和温度监测系统
清洁：
清洗机尺寸 :w3050 / d1250 / h1960 毫米
重量 : 约 1200 公斤电刷尺寸 :270( 外径 )032( 内径 )320( 长 ) 毫米
配置 : 独立配置 4 个清洗工位， DIW 刀预清洗， 2 个双面滚刷清洗， N2 吹旋漂干
预清洗工位 :DIW 喷雾清洗，工位间 DIW 帷幕清洗
辊刷工位
化学： nh4oh （ <1% ）或 DIW
刷型 : 双面 PVA 刷
转速 :< 满量程的± 2% 范围 30~300rpm
化学品供应 :4 个喷嘴和通过刷子
可用化学 :4 化学
化学品流量 : 满量程 < 1l /min
DI 流量 : 满量程 < 10l /min
转站
旋转速度 : 最高 2500 转 / 分
DIW 冲洗 / N2 吹 ( 可选 : 强 扫 )
控制
工艺 : 自动上片，自动顺序，湿进 / 干出
程序控制 :PC & 触摸屏监控，程序可编程，计算机网络可比
1.
规格
抛光机部分机头，工作台
:30- 200rpm，旋转运动，机头振荡
(
±
15mm)
抛光机尺寸
:
宽
1626 *
宽
1500 *
高
1950
毫米
重量
:
约
2500
公斤压板尺寸
:
Φ
762
毫米
(30
英寸
)
，特氟龙涂层铝
压制方式
:
可变空气
压力电子控制器膜类型
:70-350
克
/
平方厘米
(1 psi~5 psi)
的
12"
晶圆片
CMP
制程
:Si CMP
、氧化物
CMP(BPSG
、
TEOS
、
SC)
、金属
CMP(W
、
Cu)
、
STI
、
PGI
等
2.
可添加选项
垫式调理方法
:
摆头式或摆臂式
单头或双头系统
摩擦力和温度监测系统
3.
清洁
清洗机尺寸
:w3050 / d1250 / h1960
毫米
重量
:
约
1200
公斤电刷尺寸
:270(
外径
)032(
内径
)320(
长
)
毫米
配置
:
独立配置
4
个清洗工位，
DIW
刀预清洗，
2
个双面滚刷清洗，
N2
吹旋漂干
预清洗工位
:DIW
喷雾清洗，工位间
DIW
帷幕清洗
辊刷工位
化学：
nh4oh
（
<1%
）或
DIW
刷型
:
双面
PVA
刷
转速
:<
满量程的
±
2%
范围
30~300rpm
化学品供应
:4
个喷嘴和通过刷子
可用化学
:4
化学
化学品流量
:
满量程
< 1l /min
DI
流量
:
满量程
< 10l /min
转站
旋转速度
:
高
2500
转
/
分
DIW
冲洗
/ N2
吹
(
可选
:
强扫
)
控制
工艺
:
自动上片，自动顺序，湿进
/
干出
程序控制
:PC &
触摸屏监控，程序可编程，计算机网络可比
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