纳米压印设备

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纳米压印设备对应的应用：1.AR/VR/MR；2.3D Sensor；3.WGP(无机偏光板)；4.DNA Sequenser。

纳米压印设备对应的应用图形：1.DOE图形；2.Lens Array；3.斜面图形；4.L&S图形；5.蛾眼结构图形；6.Retroreflrctor图形。

流程：1.子模的生产（母模→子模）2.产品的制造（子模→产品）。

搬送Robot ：Coater与 Imprint 2 peases

塗布材料：Primer･产品材料･Replica材料

清洗功能：Cup清洗･Edge清洗･背面清洗(PGMEA)

转速：MAX 3000rpm±2rpm

加速度：MAX 10,000rpm/sec±5%

Option：2 工作单元（溶剂不可兼容时可追加一个工作单元）

Bake温度:Max 250℃≦±５.0℃

Cool温度:20～27℃(Chiller)

Option：2段（Tact对应）

UV light source：UV-LED 365nm（standard）

真空：50～100Pa、加压0.1～0.9MPa

1972年 公司建立以来半导体制造设备 销售业绩1300台以上FPD制造设备 销售业绩 800台以上合計2,100台以上的销售业绩并且在现地有成熟的售后服务体系