OMBD 有机分子束沉积

技术参数

1.蒸镀源Cell&电源：
•有机金属沉积蒸镀Cell
--zui大温度: 500℃
--坩埚容积和材料: 2~200 ccQuartz, Graphite,etc
--包含ShutterCooling shroud (选件)
--电源:15A, 20V
--温度控制: PID control
•金属沉积蒸镀Cell
--zui大温度: 1,400℃(up to 1,800 ℃)
--坩埚容积和材料: 2~120 ccAl2O3, BN, PBN, etc
•包括shutter和Cooling shroud
•电源: 30A, 80V
•温度控制：ntrol : PID control

2.薄膜沉积控制：
•CygnusPC控制
--控制沉积参数
----多达6源同时沉积
--石英晶体振荡器
----一个, 两个或六个
•膜厚测量
--石英晶体振荡器
----一个, 两个或六个

3.真空室：
•圆柱形腔体
--直径: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm)
-- 高度: 300 ~ 700 mm
•方形腔体
--根据客户需求定制

4.真空泵和测量装置：
•低真空: 干泵和convectron真空规
•高真空: 涡轮分子泵，低温泵和离子规
•超高真空: 离子泵和离子规

5.控制系统：PLC, PC with Touch Screen