精品视频一区二区三区 等离子清洗机光刻胶灰化

等离子清洗机清洁、改性、光刻胶灰化。适用于硅基半导体及化合物半导体前后道的等离子体去胶设备，可用于光刻胶灰化/残胶去除和表面处理，等离子清洗机有两种配置分别兼容4“/6"/8“或8“/12“晶圆。等离子清洗机的设计紧凑占地面积小，设备稳定可靠、易于维护、产能高。等离子清洗机能去除材料表面的机械损伤、化学溶剂、完整的绿色工艺、脱模剂、添加剂、增塑剂或其他由碳氢化合物组成的表面污染物。等离子清洗机表面清洁能去除牢固附着在塑料表面的非常细小的灰尘颗粒。通过一系列的反应和相互作用，等离子体清洗机能去除物体表面的这些尘埃颗粒。这可以显着降低各行业等对质量要求较高的涂装作业的报废率。通过一系列微观层面的物理化学作用，等离子体清洗机的表面清洗作用可以获得精细、优质的表面。

等离子清洗机在去除光刻胶方面的具体使用：

等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、介电质刻蚀、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗机不仅能清除光刻胶等有机物，还能活化加粗晶圆表面，提高晶圆表面的浸润性，使晶圆表面更加具有粘接力。

等离子表面处理机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。低温等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。

等离子表面处理机可用于清洗、刻蚀、活化和表面准备等，可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。