联系电话
湘潭市三星仪器有限公司
中级会员·18年
- 联系人：
- 钟小姐
- 电话：
- 0731-58223395 58223399 13341323987
- 手机：
- 13037327145钟 18975216877周
- 售后：
- 13341323987 17680327681
- 传真：
- 0731-52835066
- 地址：
- 湖南省湘潭市高新区双马街道五号路东方金谷产业城C03栋1101
- 个性化：
- www.xtdl.org
- 网址：
- www.xtdl.org
扫一扫访问手机商铺
关于CVD化学气相沉积
2022-4-11 阅读(965)
提 供 商
资料大小
资料类型
资料图片
下载次数
浏览次数
CVD: 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition)
CVD: 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition)，用含有目标元素的气体，接收能量后通过化学反应，制备固体薄膜。CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。化学气相沉积法是传统的制备薄膜的技术，其原理是利用气态的反应物，通过原子、分子间化学反应，使得气态前驱体中的某些成分分解，而在基体上形成薄膜。化学气相沉积包括常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等。
