半导体制造对水质要求近乎苛刻，上海某芯片生产企业在光刻、蚀刻工序中，每日产生 1500 吨含氟、氨氮的酸性废水，虽现有处理设施能实现达标排放，但高昂的自来水采购成本（年支出超 2000 万元）与废水外排指标限制，成为企业扩产瓶颈。经企业高层对多家环保企业进行考察后，于 5 月 15 日委托杰鲁特进行技术升级。

检测数据显示，废水含氢氟酸浓度 800mg/L、氨氮 500mg/L、pH 值 1.5，且含有微量重金属离子。传统中和沉淀法虽能去除大部分污染物，但产水水质无法满足半导体生产用水电阻率＞18MΩ・cm 的要求。杰鲁特技术团队经小试实验，开发出 “分级中和 - 离子交换 - 电去离子（EDI）" 的超纯水回用工艺。

工艺前端采用 “石灰乳分段中和 + 板框压滤"，将氟离子浓度降至 10mg/L 以下；中段利用螯合树脂选择性吸附重金属，配合反渗透膜系统实现盐分截留；后端通过 EDI 装置进一步去除溶解性离子，产水电阻率稳定在 18.2MΩ・cm，各项指标达到 SEMI 国际标准。为应对水质波动，系统配置在线氟离子检测仪、电阻率传感器，实时联动加药系统与膜清洗程序

企业对中试数据高度认可，5 月 22 日签订总承包合同。项目建成后，废水回用率将达 90%，每年节省水费 1800 万元，同时减少 80% 的废水排放量，为企业新增 20% 的产能空间。