液晶检查显微镜简述

阅读：1038发布时间：2017-7-7

主要特点：

UIS无限远校正光学系统，提供出色的图像质量；

人机工程学的进一步改善，使操作更为舒适；

多种高度功能化的附件，能满足各种检验需要。

用途：

针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。

优点：

配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰，衬度好。

优势：

紧凑的Y型匀设计，稳定且占地小；

新的光路设计，光效率更高，采用长寿命卤素光源；

反射镜体，可用于明场、简易偏光、微分干涉相衬观察；

显微镜本体，反射照明器，物镜转换器都采用防静电设计(ESD)。

以上信息由企业自行提供，信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责，化工仪器网对此不承担任何保证责任。
温馨提示：为规避购买风险，建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。