摩擦机是为液晶研发实验室开发的。该系统用于在聚酰亚胺上刻画沟槽，以确定液晶分子的方向。凹槽是用一种深度为几埃特的特殊摩擦布制成的。基片由真空吸盘固定，真空吸盘包括真空泵，并与系统集成。可装载的最大玻璃基片尺寸为 100 毫米 x 100 毫米。基片和真空吸盘被固定在一个旋转台上，因此可以在 0 到 180 度之间的任意角度进行旋转和定位，以获得不同的摩擦方向。

该系统是作为一个独立单元开发的，可改变辊筒的速度和基片的速度。

可编程功能

基底的运动范围

移动速度（基底平台）

重复次数/操作持续时间

                                                                                                      规格

基片支架

    a) 用于基底移动的电动线性平台

    b) 由步进电机驱动

    c) 行程：80 毫米

    d) 低速度：0.05 毫米/秒

           最高速度：9 毫米/秒

    e) 可移动基板的最大尺寸：100 毫米 x 100 毫米

    f) 基板固定在旋转台上，可旋转 +/- 45 度

    摩擦轮传动装置：带速度控制的无刷直流电机

           高转速：3000 rpm

           低转速：0 rpm

    LCD 屏幕显示速度

    通过旋钮控制主轴转速

    输入：230 VAC

    系统可独立使用

    基底保持：真空（含真空泵）

    真空泵类型 ：    无油

    摩擦布：绒布（不包括在内）