实验室镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE 分子束外延，PLD 激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

　　1.MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备。

　　2.设备主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、加热样品台、流量控制系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。

　　3.该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

　　4.主要用途：

　　1. 开发纳米级单层、多层及复合膜层等。

　　2. 制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，例：银、铝、 铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、氮化钛、氮化铬、ITO......

　　3. 两靶单独溅射、依次溅射、共同溅射。

　　5.应用领域：

　　1. 高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。

　　2. 钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV 太阳能电池等行业。