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蒸发镀膜仪是制备集成电路的关键设备之一

阅读:182      发布时间:2025-5-27
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  在半导体制造中,蒸发镀膜仪可用于沉积金属电极、绝缘层等薄膜,是制备集成电路的关键设备之一。例如,通过蒸发铝等金属,可以在硅片上形成导电的电极,实现电子元件之间的连接。在电子元器件的生产中,如电容器、电感器等,也常常利用蒸发镀膜技术来制备薄膜介质或导电层,以提高器件的性能和可靠性。
 
  用于制造光学镜片的增透膜、反射膜等。通过蒸发特定的材料,如氟化镁、银等,可以在光学镜片表面形成一层厚度均匀、光学性能优良的薄膜,减少光线的反射损失,提高镜片的透光率或反射率。在激光技术中,可用于制备激光镜片的防护膜、反射镜等,满足激光系统对光学元件的高要求。
 
  蒸发镀膜仪的组成:
 
  1.真空腔体:这是蒸发镀膜仪的主体部分,用于提供一个密闭的高真空环境。腔体的设计通常考虑到易于操作和维护,如采用前开门式结构,方便取放基片、更换蒸发源以及进行日常的清洁和保养。腔体的大小和形状会根据不同的应用需求有所差异,可以容纳较大尺寸的基底,满足大规模生产或特殊实验的要求。
 
  2.真空系统:由真空泵、真空阀门、真空管道等组成,负责将腔体内的气体抽出,以达到所需的真空度。常见的真空泵包括机械泵、分子泵等。机械泵主要用于粗抽,能够快速将腔体内的大部分气体抽出,而分子泵则用于进一步提高真空度,其工作原理是基于高速旋转的转子将气体分子吸附并排出,从而获得真空度。
 
  3.蒸发源:是蒸发材料加热蒸发的关键部件,根据加热方式的不同,有各种不同的类型。如电阻加热源中的钨舟、钼舟等,它们能够承受高温,且与蒸发材料有良好的热接触,确保材料均匀受热蒸发。电子束蒸发源则相对复杂,它通过电子枪产生高能电子束,聚焦在蒸发材料上,使其迅速熔化并蒸发。
 
  4.基底支架与样品台:用于固定基底,使其处于合适的位置以接收蒸发材料形成的薄膜。样品台通常可以进行旋转、倾斜等运动,这样可以保证薄膜在基底表面的均匀性。在有些蒸发镀膜仪中,样品台还能够实现多工位切换,提高镀膜效率。
 
  5.控制系统:负责对整个镀膜过程进行准确的控制和调节。它可以设定蒸发温度、蒸发时间、真空度等参数,并根据预设的程序自动运行。同时,控制系统还能实时监测设备的各项状态,如真空度、温度等,一旦出现异常情况,能够及时发出警报并采取相应的保护措施。
蒸发镀膜仪

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