应用分享 | 氩离子设备 (XPS、PHI710、TOF-SIMS)

氩离子设备

对于表面分析，样品表面极易被污染。

为了清洁被污染的固体表面,在能谱分析中,常常利用离子设备发出的离子束对样品表面进行溅射剥离,以清洁表面。

利用离子设备发出的离子束定量地剥离一定厚度的表面层,然后再分析表面成分,这样就可以获得元素成分沿深度方向的分布图。

同时，离子设备也兼具中和样品表面荷电的作用。

一、氩离子设备原理图

▲ 图1 氩离子设备原理图

二、氩离子设备实图

▲图2 氩离子设备图

三、氩离子设备主要作用

> 清洁(样品表面被污染)

清洁被污染的样品表面,利用离子设备发出的离子束对样品表面进行溅射剥离,以清洁表面

> 溅射(对样品进行深度剖析)

利用离子设备发出的离子束定量地剥离一定厚度的表面层,然后再分析表面成分,以获得元素成分沿样品深度方向的分布

> 荷电中和

中和样品表面的荷电 

四、氩离子设备多种参数设定

根据样品需要设置多种参数选择性

 ▲图3 氩离子设备多种参数选择

五、不同设备仪器的氩离子设备

▲图4 氩离子设备在XPS上 

 ▲图5 氩离子设备在PHI710上 

▲图6 氩离子设备在TOF-SIMS上

六、简易便捷的氩离子设备灯丝实体图

▲ 图7 XPS的氩离子设备灯丝 

▲ 图8 PHI710的氩离子设备灯丝 

▲图9 TOF-SIMS的氩离子设备灯丝

结语

氩离子设备已广泛应用在各表面分析设备上，且可以根据样品进行参数的设定选择，是进行表面分析不能缺少的构件。

-转载于《PHI表面分析 UPN》公众号