LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2 (NMC 811) 的性能标准和结构精修
LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2 (NMC 811) 是目前NMC型材料中性能最好的一种高能量密度阳极材料。NMC 811对锂离子电池的性能起着至关重要的作用,对电动汽车和储能系统来说尤其如此。NMC 811的结构完整性和相组成对其电化学性能(包括容量、稳定性和寿命)具有显著影响。X光衍射 (XRD) 是对NMC 811进行全面结构分析不可或缺的工具,可帮助我们深入了解其晶相、晶格参数和潜在结构缺陷。
NMC晶体为六方对称的层状α-NaFeO2
结构类型
尽管NMC材料相比之前的材料有了显著改进,但仍存在两个显著缺点:容量衰减严重,以及高倍率(C rate)下充放电速率能力差。其根本原因在于:1)电导率低;2)Li+和 Ni2+的反位混合;3)副反应导致的氧损失。
通过某些衍射强度与晶格参数之间的比值,可以得出有意义的性能指标。锂离子的高迁移率取决于六方a-b平面的强长程有序性。R-因子 (R = (I006+I102)/I101) 能很好地指示这种有序性。
此外,通过I003/I104比值可以评估Li-Ni反位混合,若该比值大于1.2且c/a > 4.9,则表明反位混合率低 (< 2%),因此不再影响电化学性能。1对粉末衍射数据进行Rietveld结构精修,可获得有关结构的详细信息,包括键长、层间距、占位率或位移参数,这些信息对于材料的详细结构分析至关重要。
利用XRD的功能,研究人员和行业专业人士就能更深入地了解NMC 811的结构特性,从而提高材料性能,推动更高效电池技术的发展。
仪器和软件
Thermo Scientific™ ARL™ X'TRA Companion XRD 系统(参见图1)是一款简单易用的台式XRD仪器,适用于常规相分析以及更高级的应用。

图1.ARL X'TRA Companion衍射系统
产品亮点




使用Co Kα(1.790915 Å)辐射,在反射模式下对来自MSE Supplies® LLC的LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2样品进行了10分钟(5-90°2θ)(参见图2)和60分钟(10-143°2θ)测量。通过旋转样品和电子光子能量过滤来进行数据采集,以减少样品荧光。使用Profex软件(BGMN)程序,通过轮廓拟合得出强度,并对所有结构参数进行Rietveld精修。2使用Arai等人发布的NMC 811结构3作为初始模型。对总公式施加了约束,并使用各向异性原子位移参数(ADP)对Li-Ni反位混合(仅TM、O位点;Li位点各向同性ADP)进行精修。轮廓拟合基于BGMN的基本参数方法。

图2.对LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2进行测量(10分钟)。(点击查看大图)
LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2样品为纯相。使用10分钟测量数据进行拟合,确定了强度和晶格参数。结果显示I003/I104= 1.37,c/a= 4.94,R= 0.46,因此符合高性能材料的标准。
使用60分钟扫描对结构参数、锂镍混合和各向异性ADP(参见图3)进行了精修。各向异性ADP的大小和方向与层状化合物的预期振动矢量非常相似。与NMC 811(含3.6%反位混合)的文献值相比4,其占位率、层间距和厚度相似,但层间距压缩(4.732 Å和4.695 Å),层间距离缩短(2.599 Å和2.592 Å)。除Li+的离子半径 (0.76 Å) 和Ni2+的离子半径 (0.69 Å) 差异外,还有更多参数影响着原子间距。合成过程中,可能出现不同数量的O空位,此处未进行评估。晶格参数5的差异在3σ区间内不显著。

图3.LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2(黑色)的Rietveld精修结果与Wang等人4(橙色)的结果对比;ADP显示为99%的概率。(点击查看大图)
本文结论
ARL X'TRA Companion XRD系统在10分钟内测量的数据非常适合确定一般性能标准。使用60分钟扫描至143°的高2θ角,可对占位和各向异性ADP实现更深层次的结构精修。结果与具有不同反位混合的同类材料相当。
参考文献
[1] Z. Chen, J. Wang, D.Chao, T. Baikie, L. Bai, S. Chen, Y. Zhao, T. C. Sum, J. Lin, Z. Shen, Sci. Rep.2016, 6, 25771.
[2] N. Doebelin, R. Kleeberg, J. Appl. Crystallogr.2017, 48, 1573-1580.
[3] H. Arai, M. Tsuda, Y. Sakurai, J. Power Sources 2000, 90, 76-81.
[4] T. Wang, K. Ren, W. Xiao, W. Dong, H. Qiao, A. Duan, H. Pan, Y. Yang, H. Wang, J. Phys. Chem. C 2020, 124, 5600-5607.
[5] J. Li, G. Liang, W. Zheng, S. Zhang, K. Davey, W. K. Pang, Z. Guo, Nano Mater. Sci. 2023, 5, 404-420.
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