CNI v3.0-200 台式纳米压印机

一、纳米压印机的工作原理

纳米压印技术通过物理压印的方式，将模板（模板表面具有纳米级图案）的微结构转移到目标材料表面，主要分为以下两种主流工艺：

1. 热压印（Thermal NIL）

步骤：

加热软化：将聚合物材料（如 PMMA、SU-8等）加热至玻璃化转变温度以上，使其软化。

压印成型：用硬质模板（如硅、石英）在高压下压入软化的聚合物，形成纳米结构。

冷却脱模：降温固化聚合物后，分离模板，保留纳米图案。

特点：工艺简单、成本低，但高温可能限制对热敏感材料的应用。

2. 紫外光固化压印（UV-NIL）

步骤：

涂覆光刻胶：在基材表面旋涂紫外光固化胶（低粘度树脂）。

压印曝光：用透明模板（如石英）压合胶层，同时紫外光照射固化胶体。

脱模与刻蚀：分离模板后，通过刻蚀去除残留胶层，得到纳米结构。

特点：室温操作、分辨率高（可达 <50nm），适合精密器件制造。

纳米压印优势：

超高分辨率：超越传统光刻的物理衍射极限。

低成本：无需复杂光学系统，适合大面积图案化。

材料兼容广：可加工金属、聚合物、玻璃等多种基材。

二、纳米压印机技术特点

CNI v3.0系列纳米压印机是一款专为实验室开发的即插即用，兼具热压印和紫外压印两种功能，而且可以快速的实现真空环境下的压印。UV盖和连接器的压印腔室，控制模块，用于自动控制压印过程（压力，温度，UV曝光等），压印室可实现真空兼容，低至1mbar。

★1.1承载基片：≤210mm的各种基片，高度20mm；

1.2压印真空度：1mbar；

1.3加热温度：最高温度250℃；

1.4最大压力：≥5bar；

1.5 UV波长：4个组合的LED光源，波长365nm，组合光的功率可达到11.6W，LED光源的温度被实时检测，拥有过热保护功能；

1.6 UV最大功率：≥11,600mW

1.7 印章载体：1个可更换的直径为210 mm的加热元件，还可以用作压印腔中的印模承载平台，能够在高达250℃的温度下进行热压印；

1.8 压印软件：运行CNI 软件，该软件控制压印过程中的所有内容（压力，温度，紫外线照射，时间等）

三、纳米压印机的应用

纳米压印技术凭借其高分辨率和低成本特性，广泛应用于以下领域：

1.半导体与集成电路

制造高密度存储芯片（如 NAND闪存、MRAM）。

光子集成电路（如硅光器件、光栅耦合器）。

优势：替代传统 EUV光刻，降低优良制程成本。

2.光学器件与显示技术

增强现实（ AR）衍射光波导。

液晶显示（ LCD）导光板微结构。

超表面透镜（ Metalens）的纳米天线阵列。

优势：实现复杂光学结构的低成本批量生产。

3.生物医学与传感器

微流控芯片（ Lab-on-a-Chip）的纳米通道。

表面增强拉曼散射（ SERS）基底。

生物分子检测的纳米孔阵列。

优势：高精度结构提升检测灵敏度与特异性。

4.新能源与柔性电子

钙钛矿太阳能电池的纳米陷光结构。

柔性电子（如可穿戴传感器）的导电图案。

透明导电膜（如银纳米线网格）。

优势：兼容柔性基材（ PET、PI），支持卷对卷（R2R）工艺。

5.防伪与装饰

包装的全息防伪标签。

奢侈品表面的纳米纹理装饰（如抗指纹、哑光效果）。

优势：微结构可定制化，难以复制。