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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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VS160UG II德国进口budatec真空回流焊炉立式 简单介绍：德国进口budatec真空回流焊炉立式 面向半导体与光伏精密制造需求开发，集成真空焊接/烧结双工艺模式，搭载±1.5℃超精度温控模块与160mm²加热平台，实现3K/s级温变速率的动态热管理。德国原厂制造的智能化系统兼容多元工艺气体环境，通过触控式人机界面实现全流程数字化管控，同步优化加工效率与设备维保便捷性 产品型号：VS160UG II 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-21 |
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VS160UG德国进口budatec回流焊炉立柜式 简单介绍：德国进口budatec回流焊炉立柜式专为半导体与光伏行业设计，提供高精度温控和高效能加工。核心功能包括真空焊接和烧结，支持多种工艺气体适配。设备采用德国柏林制造，具备160×160mm²加热区域及±1.5℃控温精度，支持3K/s加热/冷却速率。配备智能工艺控制系统及图形化界面，确保稳定运行并简化维护流程。 产品型号：VS160UG 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-21 |
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VS160S II德国进口budatec回流焊炉桌面式 简单介绍：德国进口budatec回流焊炉桌面式，专用于半导体器件与光伏组件的精密焊接及金属烧结工艺。该设备搭载多通道独立温控模块，配备每秒3开尔文温变速率的快速热循环系统，集成可编程气体流量控制器，实现全流程数字化控制。系统配置160mm²标准工艺台面，支持450℃峰值焊接温度，兼容氮气保护与N₂/H₂二元工艺气体环境，其图形化操作界面与智能维保预警系统可保障高 产品型号：VS160S II 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-21 |
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VS160S德国进口budatec真空回流焊炉 简单介绍：德国进口budatec真空回流焊炉，专为半导体和光伏器件的焊接与烧结工艺设计。具备高精度温控、快速升降温（3K/s）及灵活的气体流量编程控制，支持全数字化工艺管理。设备采用160×160mm²工作台，最高焊接温度达450℃，并提供氮气及氮氢混合气支持。其多通道温控、图形化界面及智能维护功能确保高效稳定运行，适用于精密焊接需求。 产品型号：VS160S 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-21 |
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L2006ossila浸涂机Dip Coating 简单介绍：ossila浸涂机Dip Coating是一款专为研究人员设计的高性能薄膜涂覆设备，具有高精度电机、平稳运动及广泛的基材兼容性等优点。其速度范围广，从0.01mm/s到50mm/s，确保了不同厚度的涂层需求。 产品型号：L2006 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2006Aossila浸涂机Dip Coater 简单介绍：ossila浸涂机Dip Coater通过0.01-50mm/s精密调速（速率重复性±0.01%@1mm/s）结合嵌入式控制软件（10组×20程序），实现100mm行程内±0.3%运动精度，紧凑结构（200×300×350mm）集成碰撞防护与99小时59分连续运行能力，适配多元基材涂覆需求。 产品型号：L2006A 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2006A1ossila浸涂机 简单介绍：ossila浸涂机通过控制基材从溶液中抽出的速度， 您可以改变沉积膜的厚度。高精度电机意味着可以高精确度和可再现性控制退纸速度，从而控制薄膜厚度。 产品型号：L2006A1 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2002ossila紫外臭氧清洗机UV Ozone Cleaner 简单介绍：ossila紫外臭氧清洗机UV Ozone Cleaner搭载4支150mm合成石英灯管（185nm/254nm双波段输出），通过紫外光解氧分子生成臭氧，实现有机污染物的非接触式氧化分解。系统配备153mm直径可温控样品台，支持12mm厚度内各类基材处理。 产品型号：L2002 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2002Aossila紫外臭氧清洗机UVO 简单介绍：ossila紫外臭氧清洗机UVO作为精密表面处理设备，通过高强度双波段紫外光源（185nm/254nm）激发臭氧氧化反应，实现有机污染物的无损伤分解与挥发，可在多元基材（石英/硅/金属/玻璃等）表面获得原子级洁净度。系统配置153mm直径温控样品台，集成LCD双模计时显示（剩余/已用时间），内置机械联锁与过热保护机制，适用于表面能改性（亲水化处理）、薄膜沉积预处理、精密器件清洗等关键工艺。 产品型号：L2002A 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2001AOssila匀胶机Spin Coater 简单介绍：Ossila匀胶机Spin Coater 采用创新机械设计，专为实验室环境研发，具备精准薄膜沉积能力。系统通过智能程序化控制实现120-6000 RPM无极调速，适配从结晶材料到超薄膜制备的多样化实验需求。设备内置水平校准系统与免真空托盘，确保基材平整度与涂覆均匀性。 产品型号：L2001A 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2002A3ossila紫外臭氧清洗机 简单介绍：我们所提供的ossila紫外臭氧清洗机是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而*迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。 产品型号：L2002A3 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2001Ossila匀胶机旋涂仪 简单介绍：Ossila匀胶机旋涂仪以经济型设计融合实验室操作需求，采用免真空技术替代传统真空泵/氮气依赖，通过特制凹槽托盘实现基片稳定固定。设备集成10组可编程参数模块，支持120-6000 RPM宽域调速及多工序流程设定，配备不锈钢防腐蚀外壳与24V直流安全供电系统，适配多种规格基片处理，在简化操作流程的同时降低维护成本，满足实验室精准涂覆与耐用性需求。 产品型号：L2001 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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L2001A3Ossila匀胶机 简单介绍：Ossila匀胶机，英文名：Spin Coaterr & Spin Processor）适合半导体硅片的匀胶镀膜 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、甩胶机、旋转涂布机，旋转涂敷仪，涂膜机，涂布机 产品型号：L2001A3 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-15 |
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RSS-210-S德国Unitemp进口真空回流焊炉 简单介绍：德国Unitemp进口真空回流焊炉RSS-210-S微型真空回流焊系统专为无焊剂焊接设计，结构紧凑，适合实验室和洁净室使用。具备真空密封腔室和观察窗，可选配USB摄像头，标配氮气质量流量控制器并支持多种气体氛围。加热板采用铝制方形设计，尺寸210x210mm，温控精确，升温最快达180K/min，降温最快达120K/min。 产品型号：RSS-210-S 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-06 |
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RSS-160-S德国Unitemp真空回流焊炉 简单介绍：德国Unitemp真空回流焊炉RSS-160-S微型真空回流焊系统专为无焊剂焊接设计，结构紧凑，适合实验室和洁净室使用。具备真空密封腔室和观察窗，可选配USB摄像头，标配氮气质量流量控制器并支持多种气体氛围。加热板采用铝制方形设计，尺寸160x160mm，温控精确，升温最快达180K/min，降温最快达120K/min。 产品型号：RSS-160-S 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-06 |
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RSS-110-S德国进口Unitemp真空回流焊炉 简单介绍：德国进口Unitemp真空回流焊炉RSS-110-S微型真空回流焊系统专为无焊剂焊接设计，结构紧凑，适合实验室和洁净室使用。具备真空密封腔室和观察窗，可选配USB摄像头，标配氮气质量流量控制器并支持多种气体氛围。加热板采用铝制方形设计，尺寸110x110mm，温控精确，升温最快达180K/min，降温最快达120K/min，真空度可达10⁻³ hPa。 产品型号：RSS-110-S 所在地：武汉市 更新时间：2025-05-06 |
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Cat#16482通用光学显微镜用A型浸油 简单介绍：显微镜浸油选择指南 用于普通光学显微镜：A型和B几乎可以互换，彼此互溶的中级粘度。与其他类型相比，生产数量较多，并且A型和B是比较经济的。在他们之间做出选择的决定因素是您的特定应用的最佳粘度。 低粘度，用于普通光学显微镜，包装规格有7.4cc、30cc、120cc、480cc、1gal 产品型号：Cat#16482 所在地：武汉市 更新时间：2025-04-30 |
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HF型低荧光显微镜用浸油 简单介绍：显微镜浸油HF型：低荧光性，用于荧光显微镜。HF型的荧光性比LDF型略多，但不含卤素。 LDF，HF和FF型浸油的粘滞度分别为500 cSt, 700 cSt和170 cSt。 产品型号：HF型 所在地：武汉市 更新时间：2025-04-30 |
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Table Top加拿大进口Plasmionique离子溅射镀膜仪 简单介绍：加拿大进口Plasmionique离子溅射镀膜仪，多功能薄膜沉积系统，搭载Plasmionique公司研发的溅射阴极技术，专为实现高靶材利用率而设计，支持平衡与非平衡磁控配置，并提供圆形或矩形靶材适配方案。 产品型号：Table Top 所在地：武汉市 更新时间：2025-04-30 |
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Table Top 4Plasmionique微波等离子MWPlasma MWPECVD 简单介绍：Plasmionique微波等离子MWPlasma MWPECVD，加拿大进口桌面式设备，可支持MWPlasma微波等离子体和MWPECVD微波等离子体增强化学气相沉积。 产品型号：Table Top 4 所在地：武汉市 更新时间：2025-04-30 |
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