Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀系统IBE

1. 产品概述

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果 。 百科： ‌离子束刻蚀系统（IBE）是一种物理刻蚀技术，利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，并通过阳极电场加速的离子束对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的目的。‌离子束刻蚀（IBE），也称为离子铣（Ion Beam Milling），是一种具有强方向性的物理刻蚀机理，能够产生各向异性刻蚀，适用于小尺寸图形的加工。

2. 设备特点

磁阻式随机存取存储器（ MRAM ）；

介电薄膜 ；

III-V族光电子材料刻蚀 ；

自旋电子学 ；

金属电极和轨道 ；

超导体 ；

激光端面镀膜 ；

高反射（ HR）膜 ；

防反射（ AR）膜 ；

环形激光陀螺反射镜 ；

X射线光学系统 ；

红外（ IR）传感器 ；

II-VI族材料 ；

通信滤波器 。