随时掌握行业动态
网络课堂 行业直播
手机访问更快捷
更多流量 更易传播
产品
SUNJUNE/善准科技 PLUTOVAC 其他品牌
在线询价
森泰克刻蚀机Etchlab 200PX 1451
VP-RS20等离子体刻蚀机PX 4497
Plasmalab 133牛津仪器 RIE 半导体刻蚀机PX 8132
Table Top 4Plasmionique微波等离子MWPlasma MWPECVDPX 3331
SPB5/plusRIE反应离子刻蚀机PX 4318
WINETCHCCP等离子刻蚀机PX 5133
TASLimage固体径迹蚀刻测量系统PX 3217
PLASMA大气常压等离子处理机器PX 2014
FPTOR-RIE600W反应离子刻蚀机系统PX 3371
Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80PX 3097
RIE-300NRRIE等离子刻蚀设备PX 1950
RIE200/RIE200plus等离子刻蚀机PX 3054
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 远程等离子源PX 1976
离子污染测定仪PX 2383
森泰克感应耦合等离子刻蚀机SI 500PX 1451
VP-RS15等离子刻蚀机PX 4497
PLUTO-E100科研型等离子体干法刻蚀(ICP/CCP)系统PX 5133
ICP等离子刻蚀机PX 5133
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感应耦合反应离子刻蚀系统PX 3371
FPSEM-icp200e-ICPVCD电感耦合等离子体化学气相沉积系统PX 3371
Wintech ICP-200微芸电感耦合等离子体刻蚀机PX 0
Wintech CCP-200微芸电容耦合等离子体刻蚀机PX 0
customized-12反应性离子刻蚀系统RIEPX 1950
RIE-200CRIE等离子刻蚀设备PX 1950
Ionfab 300 IBE离子束刻蚀系统IBEPX 1950
customized-14深硅刻蚀系统DEEP SI ETCHPX 1950
RIE-800iP等离子体刻蚀设备PX 1950
RIE-10NRRIE等离子刻蚀设备PX 1950
RIE-230iP等离子体(ICP)刻蚀设备PX 1950
RIE-400iP等离子体(ICP)刻蚀设备PX 1950
RIE-800iPC等离子体刻蚀设备PX 1950
NE-5700/NE-7800刻蚀设备PX 1950
ULHITETM NE-7800H高密度等离子刻蚀装置PX 1950
NLD-570NLD干法刻蚀设备PX 1950
APIOS NE-950EX干法刻蚀设备PX 1950
NLD-5700干法刻蚀装置PX 1950
EIS-200ERP离子束刻蚀机PX 1950
EIS-1500离子束刻蚀机PX 1950
PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统PX 1950
PlasmaPro 100 Cobra ICP电感耦合等离子体刻蚀PX 1950
薄膜生长设备
工艺测量和检测设备
集成电路测试与分选设备
光刻及涂胶显影设备
热工艺设备/热处理设备
硅片制备/晶体生长设备
掩模版和中间掩模版制造设备
离子注入设备
干法工艺设备
湿法工艺设备
组装与封装设备
其它半导体行业仪器设备
Plasmionique微波等离子MWPlasma MWPECVD
TASLimage固体径迹蚀刻测量系统
科研型等离子体干法刻蚀(ICP/CCP)系统
森泰克刻蚀机Etchlab 200
森泰克感应耦合等离子刻蚀机SI 500
等离子刻蚀集群系统
RIE等离子刻蚀系统
等离子刻蚀系统RIE
等离子体刻蚀机
大气常压等离子处理机器
日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备
上海衡平仪器仪表有限公司
赛默飞色谱及质谱
上海平轩科学仪器有限公司
微信公众号
采购中心
请选择参数!