RIE200/RIE200plus 等离子刻蚀机
- 公司名称 广州金程科学仪器有限公司
- 品牌 CIF
- 型号 RIE200/RIE200plus
- 产地 河北
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2024/8/27 16:26:21
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广州金程科学仪器公司供应等离子刻蚀机， RIE反应离子刻蚀机采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特 别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及 复杂的几何构形进行 RIE反应离子刻蚀。具体包括：
介 电 材 料 (SiO2、SiNx等)
硅基材料 (Si,a-Si,poly Si)
III-V材料 (GaAs、InP、GaN 等)
溅射金属 (Au、Pt、Ti、Ta、W等)
类金刚石 (DLC)
等离子刻蚀机原理 ：
等离子蚀刻，也称为干法蚀刻，等离子刻蚀机 是一种利用等离子体对半导体材料进行刻蚀加工的 设备，是半导体制造过程中的设备之一。 利用等离子体作为蚀刻介质，通过控制射频功率、 气体流量、压力、蚀刻气体种类、处理时间、平台 温度等工艺参数，选择性地移除沉积层特定部分的 材料，将图案蚀刻到基材上的过程。
应用领域：主要用于微电子芯片、太阳能电池、生物芯片、显示器、光学、通讯等领域的器件研发和制造。
仪器特点：
7寸彩色触摸屏中英文互动操作界面，自动控制监测工艺参数状态，20个配方程序，工艺数据可存储追溯。
PLC 工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。
真空舱体、全真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。
采用防腐数字流量计，实现对气体输入精准控制。标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，可输入氧气、氩气、 氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。
采用花洒式多孔进气方式，改变单孔进气不均匀问题。
HEPA 高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。
符合人体功能学的60度倾角操作界面设计，操作方便，界面友好。
采用顶置真空舱，上开盖设计，下压式铰链开关方式。
上置式360度水平取放样品设计，符合人体功能学，操作更方便。
有效处理面积大，可处理最大直径154mm 晶元硅片。
安全保护，舱门打开，自动关闭电源，机器运行、停止提示。
等离子刻蚀机技术参数：
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型号 |
RIE200 |
RIE200plus |
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舱体内尺寸 |
H38xφ260mm |
H38xφ260mm |
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舱体容积 |
2L |
2L |
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射频电源 |
40KHz |
13.56MHz |
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电极 |
不锈钢气浴 RIE电极，φ200mm |
不锈钢气浴 RIE电极，φ200mm |
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匹配器 |
自动匹配 |
自动匹配 |
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刻蚀方式 |
RIE |
RIE |
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射频功率 |
0-600W可调(可选0-1000W) |
0-300W可调(可选0-600W) |
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气体控制 |
质量流量计 (MFC) (标配双路，可选多路)流量范围0-500SCCM(可调) |
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工艺气体 |
Ar、N₂ 、O₂ 、H₂ 、CF4、CF4+H2、CHF3或其他混合气体等(可选) |
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最大处理尺寸 |
φ154mm |
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产品尺寸 |
L520xW600xH420mm |
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包装尺寸 |
L700xW580xH490mm |
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时间设定 |
9999秒 |
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真空泵 |
抽速约 8m³/h |
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气体稳定时间 |
1分钟 |
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极限真空 |
≤1Pa |
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电源 |
AC220V 50-60Hz,802(1202)502(802)W所有配线符合《低压配电设计规范 GB50054-95》、《低压配电装置及线路设计规范》等国标标准相关规定。 |
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整机重量 |
38kg |
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备注： 可选： 1、冷却循环水器：温度控制范围-20-100℃;2、分子泵：分子泵抽速85L/s(N2) 极 限 真 空 ：LF<8*10-
6Pa,CF<8*10-7Pa。
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