Cchip-0019 高深宽比紫外光刻机

产品名称：高深宽比紫外光刻机 （曝光机）

产品型号： Cchip-0019

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高深宽比紫外光刻机 简介：

微流控芯片的设计结构一般深宽比较大， 针对微流控芯片 这一特点，中芯启恒 自主研发生产 了 Cchip-0019 适用于高深宽比工艺的光刻机。该 设备采用目前 LED光源，紫外波长 365nm ， 光源 纯度高，辐射能量均一可调 。 设备 配有 智能化触摸屏操作面板 ， 外观比较传统光刻机体积更小，集成化度 更 高， 不仅 简化 了 操作流程， 还进一步 提高 了 工艺效率。

不仅如此， 我们 还 对曝光系统进行 了 优化，将曝光过程中衍射误差降到极限 ， 保证图案设计值与实际值一致，从而为芯片制作保驾护航。

以下是客户实测图片，结构高度92um，间距 20um ，请参考！

中芯启恒提供一站式微流控解决方案 ：

（1） PDMS/玻璃 /PMMA 等各种材质微流控芯片加工设备、耗材、试剂、配件等服务。

（2） 提供微流控芯片光刻实验室、微流控芯片软注塑实验室、微流控芯片封合实验室、微流控实验系统平台组建服务。

（3） 公司提供微流控芯片加工技术培训和微流控芯片使用技术培训。