低真空化学气相沉积设备
- 公司名称 北京瑞科中仪科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2025/5/27 8:55:58
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| 价格区间 | 面议 | 应用领域 | 环保,生物产业,石油,制药/生物制药,综合 |
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低真空化学气相沉积设备是一種化學氣相沉積技術，利用熱能在基板表面上引發前驅氣體的反應。表面的反應是形成固化材料的原因。低真空用於減少氣相反應，還可以提高整個基板的均勻性。除此之外，該過程取決於溫度控制，過程溫度越高，維持性越好。與大氣壓下的傳統 CVD 製程相比， 低真空化学气相沉积设备 ：每批製程可裝載更多的晶圓（每批 100-200 個晶圓）、晶圓內的厚度均勻性得到了改善（ <±3 ％），並且降低生產成本。 SYSKEY 的系統可以精準的控制製程氣體與監控其數據 ( 壓力、載台溫度 ) ，並提供高品質的薄膜。
参数
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應用领域 |
腔體 |
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· 碳納米管和石墨烯的製程。 · · SiOx、 SiNx 、 a-Si 、 DLC 和其他薄膜 · 製程。 · · 熱退火。 · · 擴散製程。 · · 氧化製程。 · |
· 加熱爐配置：水平或垂直，結合 · 傳送機構。 ·
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配置和優點 |
選件 |
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· 客製化的基板尺寸，直徑可達8寸 · 晶圓。 · · 單載片或多載片。 · · 優異的薄膜均勻度小於 ±5 ％。 · · 精準流量控制器，氣體分佈高度均勻，最多可容納10條氣體管線。 · · 穩定的溫度控制，可將載盤加熱至1700°C。 · |
· 可以與傳送腔(單載台或多載台 ) 整 · 合在一起。 · |
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