KLA Candela® 8520表面缺陷检测系统 采用专有的光学技术，可同时测量两个入射角的散射强度。 它可以捕捉到形貌变化、表面反射率、相位变化和光致发光，从而对各种关键缺陷进行自动检测与分类。KLA Candela® 8520表面缺陷检测系统为氮化镓晶圆提供表面和光致发光的缺陷检测，对氮化镓位错、凹坑和孔洞进行检测和分类，用于氮化镓反应器的缺陷控制。其功率应用包括基于碳化硅的透明晶圆检查和晶体缺陷分类，如基面位错、微管、堆叠层错缺陷、条形堆叠层错缺陷、晶界和位错，以及对三角形、胡萝卜形、滴落物和划痕等形貌缺陷进行检测。

功能

• 检测宽带隙材料上的缺陷，包括直径达200毫米的碳化硅和氮化镓（衬底和外延)

• 支持各种晶圆厚度

• 对微粒、划痕、裂纹、沾污、凹坑、凸起、KOH蚀刻、胡萝卜形与表面三角形缺陷、基平面位错、堆叠层错、晶界、位错和其他宏观外延干扰进行检测

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应用案例

• 衬底质量控制

• 衬底供应商对比

• 入厂晶圆质量控制(IQC)

• 出厂晶圆质量控制(OQC)

• CMP（化学机械抛光工艺）/抛光工艺控制

• 晶圆清洗工艺控制

• 外延工艺控制

• 衬底与外延缺陷关联

• 外延反应器供应商的对比

• 工艺机台监控

行业[MTpage]ong>

• 工艺设备监控

• 其他化合物半导体器件

选项

• SECS-GEM

• 信号灯塔

• 金刚石划线

• 校准标准

• 离线软件

• 光学字符识别(OCR)

• 光致发光