测量系统规格
基本功能：获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱
光谱分析范围：380nm-1000nm
测量光斑大小：标准1.5mm，最小0.5mm
膜厚重复性测量精度：0.02nm（100nm 硅基SiO2样件，100次重复测量）
膜厚精度：0.2%或2nm之间较大者
膜厚测量范围：15nm-70μm
测量n和k值厚度要求：100nm以上
单点测量时间：≤ 1s
光源：标准卤灯光源（光源寿命2000小时）
分析软件：多达数百种的光学材料常数数据库，并支持用户自定义光学材料库；提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能
样品台规格：
基板尺寸：支持样件尺寸到150*150mm(可升级定制不同尺寸样品台)
测控与分析软件
光谱测量能力：反射率光谱测量
数据分析能力：膜厚分析能力，光学常数（折射率和消光系数）
支持常用光学常数模型以及常用振子模型（柯西模型、洛伦兹模型、高斯模型等）；
支持用户自定义，可离线分析软件模拟实际测量，支持Windows 10操作系统
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