Leica EM ACE600 高真空镀膜仪

　　LeicaEMACE600高真空镀膜仪是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。

　　这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统，石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。

　　特点

　　LeicaEMACE600高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:金属溅射镀膜、碳丝蒸发镀膜、碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）、电子束蒸发镀膜辉光放电连接VCT样品交换仓，与徕卡EMVCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

　　适合广泛应用领域的高真空镀膜系统：EMACE600溅射镀膜机装有可配置式金属处理室，十分灵活，适合广泛的应用领域。实现工作流程目标，满足实验室需求——可在同一个制备过程中运行两个不同的溅射源，还可配置EMACE600用于高级冷冻工作流程。

　　通过方便的前门装载方法、仅需按下一个按钮即可启动的收料即镀式自动化镀膜过程，EMACE600可以让您简单可靠地制备常规样本并节省宝贵的时间。

　　优势对扁平或结构化的非导电样本进行高分辨率成像，增强纳米级结构（如蛋白质或DNA链）的对比度生成透射电镜(TEM)载网的薄而坚固的支撑层，或者为敏感样本提供保护层。

　　扩展冷冻应用中的系统使用EMACE600碳镀膜和溅射镀膜机，皆可实现。

　　通过溅射镀膜获得可重现的高品质薄膜，使用EMACE600高真空镀膜系统，每次运行均可始终一致地生成高品质的溅射镀膜薄膜。使用收料即镀的自动化溅射镀膜工艺，满足优良镀膜所需的适当条件并实现可重现的结果。

　　可进行高达200kX的高放大倍率扫描电镜(SEM)分析，具有出色的基础真空度（<2x10-6mbar），可为各种不同的溅射靶材仔细均衡调整工艺参数。根据样本形态的需要调整样本距离和镀膜角度。

　　为进一步加强镀膜效果，可以使用Meissner捕集器将真空度提高到10-7mbar，之后再尝试对氧敏感的溅射靶材或样本材料。

　　超薄碳膜碳镀膜在电镜领域的应用十分广泛。它需要具有导电性，但对电子束透明，并且不能具有颗粒结构。

　　采用自适应脉冲方法的EMACE600碳丝所生成的薄膜，厚度精确、坚固并具有导电性，还可以通过烘焙法进一步减少污染。最终，这类薄膜提供：

　　对电子的高透明度足以承受电子轰击的强度均匀的厚度，这对于分析研究、定量成像或电子断层扫描至关重要

　　按需配置EMACE600通过EMACE600的大型可配置金属处理室，可在不破坏真空的情况下用一台镀膜机运行多个制程。同时，将溅射头与优良的碳丝蒸发器结合使用或者选用两个溅射源，可在一次制备过程中完成多层金属镀膜。

　　采用经过优化的带两个斜角端口和一个旋转台的双源方法，可在整个100毫米样本台上生成均匀分布的薄膜。

　　有稳定的碳丝、电子束和溅射镀膜机溅射源可供选择为您的EMACE600装配辉光放电溅射功能：可随时在现场升级专注于制备过程的关键部分使用EMACE600碳镀膜和溅射镀膜机，只需按下一个按钮即可让您充满信心地完成常规样本制备。简单可靠的工作流程和便捷的标准操作程序让您能够专注于电镜样本制备的关键部分。您可以专注于优化工作流程，减少自己学习操作方法或培训他人使用方法的时间。

　　通过前门安全装卸敏感样本基于工作流程的用户界面，可快速访问相关参数，全程引导式操作。

　　轻量、稳定的溅射源，方便日常操作。

　　扩展至冷冻工作流程：

　　在冷冻条件下为样本镀膜，提升实验室电镜实验能力。将样本冷冻断裂和冷冻镀膜后，通过EMVCT500传输系统将冷冻样本传输至扫描电镜，EMACE600碳镀膜和溅射镀膜机可帮助制备样本用于研究，如在生物样本原生和水合状态下的结构分析。

　　EMACE600提供：

　　用于传输冷冻样本的接口。

　　用于低温冷冻条件下镀膜的冷冻台。

　　基本型断裂装置选择优化配置配置EMACE600碳镀膜和溅射镀膜机，满足实验室日常工作需求。

　　有各种样本支架和样本台可供选择，例如带有多达3个电动轴的3轴样本台或专用冷却台。可快速更换的样本台基片使EMACE600成为多功能工具。

　　旋转投影—使纳米级结构清晰可见以专用小角度旋转投影（LARS）设置配置EMACE600，可在透射电镜中对纳米级结构（如蛋白质或DNA链）成像。EMACE600电子束源与电动LARS样本台将指令、低热损伤影响、薄膜沉积与优化的样本台几何结构相结合，可实现掠角入射沉积。用细粒度铂层以小角度对DNA链进行投影镀膜，然后添加碳层稳定脆性结构，以便在TEM中进行分析。