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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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2025-4-9 阅读(325)
如何将整片晶圆分割成独立的芯片呢？
将硅片分裂成小片的过程通常称为“划片"或“切割"（Dicing），这是半导体制造中的关键步骤，用于将晶圆分割成独立的芯片（die）。以下是几种常见方法及注意事项：
1. 机械划片（Dicing Saw）
原理：使用高速旋转的金刚石刀片或硬质合金刀片切割硅片。
步骤：
贴膜：将硅片背面粘贴在蓝膜（UV胶膜）上，固定位置。
划片：用划片机沿预先设计的切割道（切割线）进行切割。
清洗：去除切割产生的碎屑（可用去离子水或超声波清洗）。
分离：拉伸蓝膜使小芯片分离。
优点：成本低、效率高，适合大批量生产。
缺点：可能产生微裂纹或碎屑，需控制刀速和冷却。
2. 激光切割
原理：利用高能激光（如紫外激光）烧蚀硅片，形成切割道。
步骤：
激光聚焦：将激光聚焦到硅片表面，局部高温汽化材料。
扫描路径：按切割道移动激光束，形成连续切割线。
清洗分离：类似机械划片。
优点：精度高（可达微米级）、无机械应力，适合超薄硅片或复杂形状。
缺点：设备昂贵，热影响区可能需后续处理。
3. 化学蚀刻
原理：使用化学溶液（如KOH、TMAH）选择性蚀刻硅片。
步骤：
掩膜保护：在硅片表面涂覆光刻胶，曝光显影出切割道图案。
蚀刻：通过化学溶液去除无掩膜保护的硅材料。
去胶清洗：去除掩膜，清洗硅片。
优点：无机械损伤，适合特殊形状或极薄硅片。
缺点：速度慢，需精确控制蚀刻参数，废液处理复杂。
4. 等离子切割（Plasma Dicing）
原理：利用等离子体蚀刻硅片，形成深槽。
步骤：
掩膜制备：类似化学蚀刻。
等离子刻蚀：通过反应离子刻蚀（RIE）形成切割道。
优点：高精度、无碎屑，适合先进制程。
缺点：设备复杂，成本高。
注意事项
安全防护：切割过程可能产生硅粉尘或化学蒸汽，需佩戴护目镜、手套，并在通风环境中操作。
精度控制：切割深度需略大于硅片厚度，避免残留连接。
后续处理：切割后可能需抛光边缘或进行电学测试。
