精品视频一区二区三区 托托科技 无掩模光刻机

托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。

激光直写光刻技术与DMD无掩模光刻技术

激光直写技术通过激光束直接在材料表面进行高精度加工，而DMD无掩模技术通过数字微镜阵列投影光束进行图案化加工，适用于大面积光刻。

DMD无掩模光刻技术路线介绍

基本原理：DMD技术利用数字微镜装置（Digital Micromirror Device）来控制微镜的角度，从而通过投影系统在材料表面快速形成图像或光刻图案 。这些微镜根据电信号的控制会精确调节反射角度，将激光或光源投射到特定位置。

系统组成：基于DMD的无掩模光刻系统通常由光源模组、匀光模组、DMD模组、投影模组、运动台模组和软件等几大部分构成，这些模组高效、精准的协同工作，实现了高分辨率图案的快速无掩模光刻。

工作流程：上位机的发送图形数据到DMD模组，DMD显示对应的图形，经由DMD反射的光携带着图形信息，并经过一系列光学元件后照射到基片上，实现了图形的转移。高精度运动平台的协同工作，确保不同曝光区域的精准拼接, 最终实现大型、复杂图案的动态曝光。

核心功能

灵活设计无需掩模版

与传统的有掩模光刻相比，无掩模光刻机更加灵活便捷，省去了制版的时间和金钱成本，帮助您快速验证想法

加工精度可达400 nm

加工精度1 μm可以满足大多数加工需求，针对精度要求更高的用户，我们提供加工精度可达400 nm的产品供您选择

速度高达1200 mm²/min

对于大尺寸样品的加工来说，效率变得尤为重要，我们将为您供高速高精度的设备来满足您的需求

加工幅面可达2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用户，我们可提供加工幅面达2 m² 的产品来满足您的需求

灰度光刻可达4096阶

4096阶的灰度能力，能够精准地在光刻材料上构建出具有高度复杂且细腻层次变化的微观结构或图案，为微纳制造领域带来工艺精度与丰富的设计可能性

特色功能

直接绘图：直接绘图为您提供灵活便捷的手段，以此来快速验证您的想法

精准套刻：由绿光作为指引光为您提供光刻前的对准预览，以此来实现精准套刻

阵列光刻：阵列光刻为您提供快速确认工艺参数的手段，以此来帮您节约时间

主动对焦：主动对焦为您提供光刻前的实时对准，以此来确保每次光刻聚焦清晰

应用方向：二维材料

托托科技自主研发的“指引光”和“直接绘图”功能在感兴趣的二维材料上直接绘制电极图案，灵活高效。

应用方向：微流控

无掩模光刻机可用于制作高深宽比（10:1）结构，在微流控芯片的制造中具有高精度、高灵活性，广泛应用于单细胞分析、传感器等领域。

应用方向：MEMS

无掩模光刻技术在MEMS领域应用广泛，可高精度制造微米级图案，通过多层套刻的方式进行复杂结构的加工。

应用方向：微透镜

通过灰度光刻的方式可以精确控制表面形貌从而生成复杂的衍射结构，如光栅、菲涅尔透镜、微透镜等。

应用方向：光学衍射器件

灰度光刻在光学调制器件中的应用通过精确控制光刻强度，制造出高度精细的光学微结构，用于实现光波的调制与传输特性优化。

应用方向：浮雕结构

灰度光刻在防伪浮雕结构中的应用通过精细调控光照强度，实现高精度的三维微结构，增强防伪标识的复杂性和难以复制性。

应用方向：超表面

光刻工艺在超表面方向的应用通过精确加工微纳米级结构，实现对光波的精细操控和特定波长、极化等光学性质的调制。

应用方向：量子光学

光刻工艺在量子光学光波导方向的应用通过精密刻蚀微纳尺度的光波导结构，实现对量子态的传输和操控，促进量子信息处理与传输技术的发展。

应用方向：掩模版制造

高速（可达1200 mm²/min）的无掩模光刻机适用于小批量、定制化掩模版制备，减少对外部依赖，缩短设计迭代周期。

科研版-Academic 无掩模光刻机

高灵活性、高精度、无掩模的优势，适用于科学研究

●6 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可达0 . 4  μm

● 步进式光刻/扫描式光刻

高速版-Speed 无掩模光刻机

更快的加工速度、更强的设备性能，适用于小批量生产制造

●8 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可达0.5 μm

●扫描式光刻

教育版-Young 无掩模光刻机

桌面型无掩模光刻机，灵活小巧，非常适用于微电子、集成电路等加工制造的实验课程

●2英寸加工幅面

●最小特征尺寸可达1 . 5 μm

*以上所有产品的规格参数取决于个别工艺条件，并可能根据设备配置而有所不同，写入速度取决于曝光面积。

更多解决方案

● 材料器件制备一站式解决方案

如果您的研究涉及厌水、厌氧性质的材料（如磁性氧化物、Micro-LED、OLED等）又需要进行光刻相关的实验，我们可以为您提供手套箱版本的光刻机解决方案。

● 特殊衬底光刻

光刻不仅适用于常规硅基衬底，还可以在各种特殊衬底上进行，例如钻石、光纤、甚至小的发动机叶片（曲面）等，为各个应用领域提供解决方案。

● 超大幅面光刻

除了可以加工晶圆级尺寸的样品，我们还能够处理更大尺寸的样品。例如设备可以支持超大幅面（2米）的微纳加工，以满足不同研究和工业需求。

托托科技是一家快速成长的技术驱动型企业，专注于精密光学仪器的研发制造。公司目前拥有无掩模版光刻设备、磁学产品、多模态光电显微镜、超高精度3D光刻产品、3D显微镜五个核心产品线，已经形成了集设计、研发、制造、销售及客户咨询服务为一体的高科技企业，致力于给客户提供技术支持，以技术和细致设计造就品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。