ACA系列 科研版无掩模光刻机

光刻机又名 掩模 对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用 掩模 版细分为有 掩模 和无 掩模 两种。无 掩模 光刻机是一种不需要使用传统 掩模 版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的 2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无 掩模 光刻机不需要 掩模 版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。

科研版 无 掩模 光刻机 具有 高灵活性、高精度、无 掩模 的优势，非常适用于科学研究。

ACA系列是 科研版 无 掩模 光刻机 ，其基于空间光调制技术，实现了数字 掩模 光刻，灵活性使其成为科学研究的 选择 。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。 ACA系列无 掩模 光刻机为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。

ACA 无 掩模 光刻机亮点：

特征尺寸 0.8μm

6英寸光刻面积

高精度步进光刻

无 掩模 光刻机

ACA Pro无 掩模 光刻机亮点：

特征尺寸 0.4μm

6英寸光刻面积

高精度步进光刻

无 掩模 光刻机

ACA Master无 掩模 光刻机亮点：

特征尺寸 0.4μm

6英寸光刻面积

扫描光刻 /步进光刻 可切换

无 掩模 光刻机