精品网站在线免费观看 无掩模光刻机产品介绍

随着微电子、集成电路等领域的迅猛发展，光刻技术也在不断革新。托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术，为我国微电子制造领域带来了灵活性和效率。

无掩模光刻机，突破传统束缚

与传统有掩模光刻技术相比，托托科技的无掩模光刻机摆脱了实体掩模的限制，采用DMD（数字微镜装置）技术，实现了高精度、高效率的图案化加工。这种技术不仅省去了制版的时间和成本，还为科研和生产带来了极大的便利。

多型号选择，满足不同需求

托托科技针对不同应用场景，推出了科研版、教育版、高速版等多款无掩模光刻机。科研版专注于高精度、高灵活性，适用于科学研究；教育版体积小巧，适合实验课程；高速版则具备更快的加工速度，适用于小批量生产制造。这些产品满足了不同用户的需求，为我国微电子产业提供了有力支持。

技术创新，优势显著

托托科技的无掩模光刻机具有以下优势：无需掩模版的灵活性、高加工精度（可达400 nm）、高速度（可达1200 mm²/min）以及大加工幅面（可达2 m²）。此外，4096阶的灰度光刻能力，使得光刻机能够构建出高度复杂且细腻的微观结构或图案。

广泛应用，推动产业发展

无掩模光刻机在二维材料、微流控、MEMS、微透镜、光学衍射器件、浮雕结构、超表面、量子光学等领域具有广泛应用。这些应用不仅体现了托托科技产品的多样性，也推动了相关产业的发展。

托托科技，致力于技术创新

作为一家技术驱动型企业，托托科技始终专注于精密光学仪器的研发制造。公司以技术和细致设计造就品质，以耐心服务和企业担当赢得良好口碑。无掩模光刻机作为公司的核心产品之一，将继续光刻技术革新，为我国微电子产业贡献力量。

托托科技的无掩模光刻机凭借其技术和性能，已成为微电子、集成电路等领域的重要工具。在未来的发展中，托托科技将继续创新，为我国光刻技术的发展贡献力量。

托托科技的无掩模光刻机产品亮点介绍：

 高速版无掩模光刻机                                  教育版无掩模光刻机

               科研版无掩模光刻机                                    生命科学领域无掩模光刻机