托托科技自主研发无掩模光刻机

在微电子与集成电路制造领域，精度与效率是永恒的追求。托托科技自主研发无掩模光刻机，以其革命性的高阶灰度光刻能力，为行业带来了变革。

一、重塑光刻工艺

托托科技自主研发无掩模光刻机融合了激光直写技术与DMD无掩模技术，实现了在材料表面直接进行高精度加工。这一技术突破，让我们告别了传统掩模版的束缚，迈入了高效、灵活的光刻新时代。

二、核心功能，彰显性能

灵活设计：无需掩模版，省去制版时间和成本，快速验证设计理念。

高精度加工：400 nm的加工精度，满足大多数高精度加工需求。

高效生产：1200 mm²/min的加工速度，2 m²的加工幅面，大幅提升生产效率。

灰度光刻：4096阶的灰度光刻能力，构建复杂细腻的微观结构。

三、特色功能，提升用户体验

直接绘图：快速实现设计图案的绘制，提高研发效率。

精准套刻：绿光指引，实现精准对准，确保光刻质量。

阵列光刻：快速确认工艺参数，节省用户时间。

主动对焦：实时对准，确保光刻聚焦清晰。

四、广泛应用，覆盖多个领域

托托科技无掩模光刻机广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造等领域，为电子器件、生物医药、光学元件、微机械等行业提供高效、灵活的解决方案。

五、推动行业发展，共创美好未来

托托科技无掩模光刻机的问世，不仅提升了微电子与集成电路制造领域的精度和效率，还为行业带来了灵活性。我们坚信，这款产品将助力我国微电子与集成电路制造业迈向更高水平，共创美好未来。

托托科技无掩模光刻机——一款创新产品，为您带来高效、精准、灵活的制造体验！