精品视频一区二区三区 深圳市矢量科学仪器有限公司

  • 光谱椭偏仪

    UNECS系列是可以高速、高精度测量薄膜膜厚和折射率的分光椭偏仪。采用的测量方式,实现了高速测量和机体的小型化。我们的产品阵容包括便携式,自动式和对应真空环境的...
    型号: UNECS系列 所在地:日本 参考价: 面议 更新时间:2025/6/6 11:16:26 对比
  • 真空计

    皮拉尼真空计,可以测量从大气压到5×10-2Pa的广泛的压力范围该真空计从传统的控制器(传感器单元)中除去操作·显示部,最大限度凝缩精简功能...
    型号: SW系列 所在地:日本 参考价: 面议 更新时间:2025/6/6 11:14:39 对比
  • 真空泵

    VS系列是旋片式(单级)的油旋转真空泵。可搭配罗茨泵获得更大的排气量。内置油雾过滤器和回油装置,排气性能长期稳定。此外,设计上还考虑到了油和滤芯更换等维保的便宜...
    型号: VS系列 所在地:日本 参考价: 面议 更新时间:2025/6/6 11:11:17 对比
  • TCO激光划线设备

    TCO激光划线设备ULT-1400本设备通过近红外脉冲激光烧蚀法除去玻璃基板上成膜的透明电(TCO)膜,是一种枚用式激光划线设备。本设备由6个IR激光法阵器和光...
    型号: ULT-1400 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:14:21 对比
  • 自然氧化膜去除设备

    自然氧化膜去除设备去除设备RISE-300批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜...
    型号: RISE-300 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:11:58 对比
  • 干法刻蚀装置

    对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral l...
    型号: NLD-5700 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:10:19 对比
  • 干法刻蚀设备

    干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX对应LED量产用的干法刻蚀设备「NE-950EX」相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源...
    型号: APIOS NE-... 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:08:22 对比
  • NLD干法刻蚀设备

    研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570,是搭载了爱发科磁性中性线(NLD- neutral loop discha...
    型号: NLD-570 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:06:19 对比
  • 高密度等离子刻蚀装置

    高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型号: ULHITETM ... 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:03:51 对比
  • 刻蚀设备

    量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。
    型号: NE-5700/N... 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 15:01:45 对比
  • 溅射镀膜设备(立式)

    溅射镀膜设备SMD系列(立式)SMD 系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩,在各种各...
    型号: SMD系列 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:59:51 对比
  • Load-lock式溅射设备

    Load-lock式溅射设备是可对应从研究开发到小规模量产的溅射设备。这种设备通过在真空溅射室之前增加一个预真空锁室(Load-lock chamber),实现...
    型号: CS-200 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:58:03 对比
  • 批次式溅射设备

    批次式溅射设备SV系列SV系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。
    型号: SV系列 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:55:41 对比
  • 去胶设备

    去胶设备NA-1300系列从关键的新世代晶圆制程到晶圆封装,Luminous NA系列可对应广范围的各类晶圆尺寸的各类工艺需求。
    型号: NA-1300系列 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:53:49 对比
  • SiC用高温离子注入设备

    SiC用高温离子注入设备 IH-860DSIC搭载了高温ESC(静电吸附卡盘)的面向SiC量产用的高能粒子注入装置。
    型号: IH-860DSI... 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:51:37 对比
  • 离子注入设备

    研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500中电流离子注入装置IMX-3500为大能量200keV、对应大晶圆尺寸8inch的离子注入装置,适用于大学等机构的研...
    型号: IMX-3500 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:49:39 对比
  • 离子注入设备

    高能对应离子注入设备SOPHI-400可达2400KeV的高能离子注入设备。
    型号: SOPHI-400 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:47:50 对比
  • 离子注入设备

    可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30低加速、高浓度对应的离子注入设备。
    型号: SOPHI-30 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:45:48 对比
  • 枚叶式等离子CVD设备

    枚叶式等离子CVD设备CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚叶式CVD设备。
    型号: CMD系列 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:43:22 对比
  • Load-lock式Plasma CVD设备

    Load-lock式Plasma CVD设备 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究...
    型号: CC-200/40... 所在地:国外 参考价: 面议 更新时间:2025/6/5 14:41:21 对比

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