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有掩膜光刻机
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机为光掩模（0.8至1.4 m）的高通量图案化而定制。VPG1400是我们专为显示行业设计的最大的系统。它是平板...
型号： VPG 800 /... 所在地：国外参考价：面议更新时间：2025/6/6 8:56:11 对比

海德堡有掩膜
激光掩模光刻机
ULTRA激光掩模光刻机是专门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网（IoT）和 ME...
型号： ULTRA 所在地：国外参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:49:59 对比

高吞吐量半导体光掩模 ULTRA
无掩模直接成像仪光刻机
PG 300 DI 是一款体积图案发生器，专为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 VPG 系统组件，能够以最高的...
型号： VPG 300 D... 所在地：国外参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:43:56 对比

高精度高分辨率
有掩膜光刻机
VPG 200 / VPG 400 体积图形发生器是光刻系统，专为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，最大尺寸为 4...
型号： VPG 200 /... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:39:38 对比

掩模制造
激光光刻机
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、MEMS、...
型号： DWL 2000 ... 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:35:30 对比

灰度光刻
双光子聚合直写光刻机
MPO 100双光子聚合直写光刻机是一种双光子聚合（TPP）多用户工具，用于微结构的 3D 光刻和 3D 显微打印，适用于微光学、光子学、微机械学和生物医学...
型号： MPO 100 所在地：国外参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:30:58 对比

微结构的 3D 光刻 3D 显微打印
无掩模对光刻机
无掩模对光刻机 MLA 300 提供高吞吐量、简化的工作流程以及与制造执行系统（MES）的集成。该工具用于生产传感器和传感器 IC、MEMS 和微流体器件。...
型号： MLA 300 所在地：德国参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:28:32 对比

传感器 MEMS 微流体器件
无掩模直接成像仪
VPG 300 DI 无掩模直接成像仪是一款体积图案发生器，专为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 VPG 系统...
型号： VPG 300 所在地：深圳市参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:22:48 对比

高分辨率微结构精确高效微结构制造能力
激光光刻机.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、MEMS、...
型号： DWL 2000 ... 所在地：国外参考价：面议更新时间：2025/6/5 16:18:52 对比

微电子 MEMS 微流体
无掩模光刻机
μMLA无掩模光刻机是优良的无模板技术，建立在著名的 μPG 平台之上，该平台是台式无模板系统。
型号： μMLA 所在地：德国参考价：面议更新时间：2025/6/5 15:59:06 对比

微流控小规模掩模写入微光学微透镜阵列

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