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高真空电子東及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500真空室结构:U形前开门
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500真空室结构:方形前开门真空室
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450真空室结构:圆筒形前开门真空
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日本ULVAC爱发科CME-200E/400半导设备化学气相沉积设备日本ULVAC爱
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SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备,利用ICP高密度等离子源来沉